原子层沉积系统（ALD)
仪器介绍：原子层沉积（ALD）是基于连续的气相表面反应，获得纳米级的、具有非常好的保型性和工艺可控性的单层或多层薄膜。
样品尺寸：6英寸
现有前驱体：HfO2,Al2O3
原子层沉积系统设备使用说明-.pdf
设备负责人：王国华 18818218860
地址：上海市东川路800号理科实验楼群邮编：200240
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