电子束曝光系统

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仪器介绍

Raith Pioneer Two电子束曝光机是一款纳米加工与成像设备，可以实现高精度电子束曝光和高分辨成像，广泛应用于微纳光电器件、半导体器件以及新材料的研发领域。

性能指标

• 最小束斑尺寸：1.6 nm；最小线宽：8 nm

• 套刻精度： < 50 nm；最大写场：2 mm x 2 mm

• 放大倍数：50 - 500K；加速电压 20 V – 30 kV

• 探测器：Inlens探测器、SE2探测器

典型应用

用于研发和构建纳米线、量子点、场效应晶体管及各类精密的电学、光学、微机械和传感器件。

样品要求

• 干燥固体样品，样品表面干净，无油污，无磁性。

• 样品高度小于20 mm，直径小于2英寸。

设备负责人：徐元星 15715149696