热蒸发&电子束蒸镀设备

仪器介绍

电子束蒸发镀膜是在真空条件下利用加速电子直接轰击镀膜材料，使材料加热蒸发，然后在基底上沉积成薄膜的工艺。Kurt J. Lesker 公司PRO Line PVD 200 电子束蒸发镀膜机真空度高，抽空时间短，具备用户友好的软件控制系统，可以用于制备纯度高、均匀性好、厚度控制精准的薄膜。

性能指标

• 工艺腔真空压力 < 1.7E-8 Torr

• 传样舱真空压力 < 5E-7 Torr （支持氩离子除胶）

• 电子束最大功率 5kW

• 厚度均匀性优于2%

典型应用

目前可以蒸镀的靶材：Ti Cr Au Pt

样品要求

衬底直径小于200mm

设备负责人：徐元星 15715149696